日本納米計量技術(shù) 半導體光刻曝光設(shè)備

日本納米計量技術(shù) 半導體光刻曝光設(shè)備納米計量技術(shù)掩模對準機，是半導體光刻核心設(shè)備，可利用紫外線將微細圖案轉(zhuǎn)印燒結(jié)到硅、玻璃等基板上。支持接觸 / 接近等曝光方式，配備精密對準機構(gòu)與觀測光學系統(tǒng)，廣泛用于晶體管、IC、LCD 等器件制造，支持定制化需求。

產(chǎn)品型號：EV-B1 系列
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2026-03-28
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日本納米計量技術(shù) 半導體光刻曝光設(shè)備 日本納米計量技術(shù) 半導體光刻曝光設(shè)備

一、產(chǎn)品概述

這款掩模對準機（光罩對準機）是 Nanometric Technology Inc. 的核心產(chǎn)品，專為半導體元件光刻基礎(chǔ)研究與小批量試制設(shè)計，利用紫外線將微細圖案轉(zhuǎn)印并燒結(jié)到樣品上，是光刻工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

二、核心特征

多基板適配：兼容硅、玻璃、陶瓷、砷化鎵、水晶等多種基板，支持晶體管、IC、LCD 玻璃等多樣樣品。
豐富曝光模式：支持接觸曝光、接近曝光、等倍投影曝光等多種方式，適配不同工藝需求。
精密對準系統(tǒng)：搭載高精度對準機構(gòu)與觀測光學系統(tǒng)，保障圖案轉(zhuǎn)印精度，滿足半導體器件制造要求。
定制化設(shè)計：以核心功能為基礎(chǔ)，可根據(jù)客戶需求定制曝光模式、基板尺寸或自動化模塊。
穩(wěn)定可靠結(jié)構(gòu)：整機采用工業(yè)級機架，配備 UV 光源與操作面板，結(jié)構(gòu)穩(wěn)固耐用，操作便捷高效。

三、應(yīng)用場景

廣泛應(yīng)用于高校、科研院所及半導體企業(yè)的光刻研發(fā)實驗室，可用于：

晶體管、IC、二極管等半導體元件的光刻工藝制備
LCD 玻璃、水晶振蕩器的圖案形成
傳感器、MEMS 器件的微納結(jié)構(gòu)制造
新型光刻材料與工藝的基礎(chǔ)研究

四、產(chǎn)品細節(jié)與工藝

整機采用白色工業(yè)級機架，結(jié)構(gòu)緊湊且抗震性優(yōu)異；核心對準機構(gòu)可精準調(diào)整基板與光罩的位置，配合雙屏觀測系統(tǒng)，清晰呈現(xiàn)對準狀態(tài)；UV 光源模塊提供穩(wěn)定紫外線照射，支持多種曝光模式切換；操作面板集成參數(shù)設(shè)定、狀態(tài)監(jiān)控等功能，操作直觀高效。

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日本納米計量技術(shù) 半導體光刻曝光設(shè)備

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