日本納米計(jì)量技術(shù)  手動旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)設(shè)備 日本納米計(jì)量技術(shù)  手動旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)設(shè)備

一、產(chǎn)品概述

二、核心特征

• 廣泛樣品適配：兼容 φ5 英寸晶圓，同時(shí)支持定制化探頭，可靈活應(yīng)對異形樣品，滿足多樣化涂覆需求。

• 兩檔速度控制：配備 SPEED1/SPEED2 兩檔轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)，搭配 TIME1/TIME2 兩段時(shí)間設(shè)定，可精準(zhǔn)控制光刻膠成膜工藝。

• 緊湊低成本設(shè)計(jì)：整機(jī)采用緊湊型布局，兼顧高精度與經(jīng)濟(jì)性，適合科研實(shí)驗(yàn)室小批量樣品制備。

• 耐藥品性與易清潔：全不銹鋼外殼，耐化學(xué)品腐蝕，便于清潔維護(hù)，適配光刻膠等有機(jī)溶劑環(huán)境。

• 高效排氣設(shè)計(jì)：配備全周平均排氣管道，可均勻排出有機(jī)溶劑揮發(fā)氣體，保障實(shí)驗(yàn)環(huán)境安全。

• 便捷操作面板：集成轉(zhuǎn)速計(jì)、時(shí)間設(shè)定、真空吸附控制、啟動 / 停止等功能模塊，操作直觀清晰。

三、應(yīng)用場景

• φ5 英寸及以下晶圓的光刻膠均勻涂覆

• 異形樣品的定制化薄膜制備

• 半導(dǎo)體器件光刻工藝的基礎(chǔ)研究與小批量試制

• 新型光刻材料的成膜工藝探索

四、產(chǎn)品細(xì)節(jié)與工藝