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日本 NSK 光切斷法自動(dòng)對(duì)焦高精度測(cè)量?jī)x

日本 NSK 光切斷法自動(dòng)對(duì)焦高精度測(cè)量?jī)x日商精密光學(xué) AF 深度高度測(cè)量機(jī)，采用光切斷法與自動(dòng)對(duì)焦技術(shù)，實(shí)現(xiàn) 0.1μm 高精度測(cè)量。搭配彩色監(jiān)視器實(shí)時(shí)觀測(cè)，支持自動(dòng)追蹤與手動(dòng)測(cè)量，適用于芯片、PCB、模具等微小臺(tái)階、深度與高度差檢測(cè)。設(shè)備結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、成像清晰，廣泛用于精密制造與材料檢測(cè)領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號(hào)：AF-Micron 系列
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2026-03-28
訪問(wèn) 量：102

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日本 NSK 光切斷法自動(dòng)對(duì)焦高精度測(cè)量?jī)x 日本 NSK 光切斷法自動(dòng)對(duì)焦高精度測(cè)量?jī)x

這款儀器由日商精密光學(xué)株式會(huì)社打造，整機(jī)采用米白色工業(yè)級(jí)機(jī)身，結(jié)構(gòu)緊湊穩(wěn)固。核心光學(xué)系統(tǒng)搭載 13 英寸液晶彩色監(jiān)視器與彩色電視攝像機(jī)，可實(shí)時(shí)呈現(xiàn)被測(cè)物表面的狹縫斷面形貌；機(jī)身配備 XY 軸移動(dòng)平臺(tái)與操作控制盒，搭配數(shù)字線性表顯示單元，直觀呈現(xiàn)測(cè)量數(shù)值。光源模塊與光學(xué)鏡頭組分離設(shè)計(jì)，便于維護(hù)與光路調(diào)整。

? 核心性能優(yōu)勢(shì)

它是結(jié)合光切斷法狹縫觀察與點(diǎn)光源自動(dòng)對(duì)焦（AF）追蹤的新型測(cè)量設(shè)備，通過(guò)紅色激光點(diǎn)自動(dòng)捕捉階差變化，Z 軸快速追隨實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率的數(shù)字顯示。AF 驅(qū)動(dòng)具備高連續(xù)追蹤性，可在 XY 軸移動(dòng)平臺(tái)上完成高效測(cè)量，重復(fù)精度控制在 ±1μm 以內(nèi)；關(guān)閉自動(dòng)開關(guān)后，可切換為手動(dòng)微米級(jí)測(cè)量模式，兼顧自動(dòng)化與手動(dòng)操作需求。光切斷仰角除標(biāo)準(zhǔn) 90° 外，還可定制 30°、60°、120°，適配不同測(cè)量場(chǎng)景。

??? 材質(zhì)與工藝

機(jī)身采用高強(qiáng)度合金鑄造，保證長(zhǎng)期使用的抗震性與結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性；光學(xué)鏡頭選用高透光率玻璃并經(jīng)多層鍍膜處理，提升成像對(duì)比度；Z 軸驅(qū)動(dòng)采用精密絲杠與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，消除背隙確保移動(dòng)平滑；投射狹縫采用高精度蝕刻工藝，標(biāo)準(zhǔn)配置為 10μm 半透半反鏡型，可選 30μm、80μm 規(guī)格，滿足不同精度需求。

?? 技術(shù)參數(shù)

觀察方式：光切斷方式（狹縫光學(xué)系統(tǒng)深度高度測(cè)量）
物鏡：標(biāo)配 10 倍，可選 5 倍、20 倍
Z 軸驅(qū)動(dòng)：點(diǎn)光源 AF 連續(xù)追蹤方式（離線可手動(dòng)測(cè)量）
投射狹縫：10μm 半透半反鏡型（可選 30μm、80μm）
Z 軸測(cè)量：數(shù)字線性表 0.1μm 讀數(shù)
重復(fù)精度：±1μm 以內(nèi)
光源：2 類 350mW 半導(dǎo)體激光器、150W 鹵素?zé)簦ㄅ?1m 光纖導(dǎo)管）
影像系統(tǒng)：彩色電視攝像機(jī) + 13 英寸液晶彩色監(jiān)視器

?? 應(yīng)用場(chǎng)景

廣泛應(yīng)用于精密制造、半導(dǎo)體、電子元器件、材料檢測(cè)等領(lǐng)域，可測(cè)量芯片封裝臺(tái)階高度、PCB 線路溝槽深度、精密模具表面差、陶瓷 / 玻璃脆性材料裂紋等，也適用于科研機(jī)構(gòu)的材料表面形貌分析與質(zhì)量管控。

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