一、產(chǎn)品型號
本品為日本TECHNOVISION（株式會社技術(shù)視覺）原廠出品，核心型號為TWC-200A全自動掩膜板清洗裝置，專注半導(dǎo)體精密制程清洗場景，是品牌旗下針對光掩膜精細化清潔的專用機型，適配行業(yè)高標準清洗作業(yè)需求，型號標識清晰，機身標注完整，便于設(shè)備溯源、售后維保及配件匹配。
二、產(chǎn)品細節(jié)圖
整機采用立式一體化緊湊設(shè)計，機身線條規(guī)整，貼合車間精密設(shè)備擺放需求，外觀兼顧實用性與工業(yè)美觀度。設(shè)備正面設(shè)有清晰的操作交互區(qū)域，按鍵與顯示屏布局合理，便于操作人員實時管控運行狀態(tài)；內(nèi)部搭載專用卡匣傳輸結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)掩膜板平穩(wěn)送料、精準定位，避免物料磕碰劃傷；清洗腔體密封嚴實，杜絕液體滲漏，同時預(yù)留合規(guī)排氣、排水通道，保障車間作業(yè)安全；機身邊角做圓滑處理，外部框架堅固平整，各類管線排布規(guī)整、收納有序，無外露雜亂管線，既提升設(shè)備整體性，也便于日常清潔巡檢；進料出料口貼合標準掩膜板規(guī)格，卡匣式對接設(shè)計，可實現(xiàn)批量物料穩(wěn)定對接，全程無需人工頻繁干預(yù)，細節(jié)處兼顧操作便捷性與設(shè)備耐用性。
三、產(chǎn)品性能
該款清洗裝置具備精密清洗性能，可一次性去除掩膜板表面1μm以上微小顆粒物、光刻膠殘留及蝕刻副產(chǎn)物、無殘留，充分保障掩膜板版面潔凈度，適配高精度光刻制程要求。干燥環(huán)節(jié)摒棄傳統(tǒng)氣刀干燥模式，采用熱純水干燥工藝，搭配免調(diào)節(jié)專屬設(shè)計，省去水飛濺調(diào)節(jié)流程，簡化操作的同時，提升干燥均勻度，避免版面水漬殘留，保障干燥后物料可直接投入下一工序。設(shè)備全程自動化運行，卡匣對卡匣式無縫對接，無需人工值守轉(zhuǎn)運，大幅提升作業(yè)效率，降低人工失誤風(fēng)險；適配多種環(huán)保水溶性清洗液，無需使用硫酸等高?；瘜W(xué)試劑，作業(yè)更安全；設(shè)備運行穩(wěn)定，工況可控，可長時間連續(xù)作業(yè)，性能衰減慢，能持續(xù)滿足車間批量、高頻次清洗需求，適配多類精密電子制程場景。
四、產(chǎn)品用材
整機外部框架選用高強度工業(yè)合金材質(zhì)，結(jié)構(gòu)堅固、承重穩(wěn)定，不易變形、耐腐蝕，可長久保持機身穩(wěn)固性，適配車間常規(guī)作業(yè)環(huán)境；內(nèi)部清洗腔體、傳輸軌道、接觸式配件，均采用耐酸堿、防腐蝕、抗老化的精密用材，既能抵御水溶性清洗液長期侵蝕，也不會對精密掩膜板版面造成刮擦、污染，保障物料完整性；管線、密封部件選用食品級、工業(yè)級密封耗材，柔韌性強、密封性好，耐高溫、耐液體腐蝕，杜絕漏液、漏氣問題，延長設(shè)備整體使用壽命；核心電氣元件、加熱組件均選用行業(yè)優(yōu)質(zhì)配件，用材合規(guī)、性能穩(wěn)定，兼顧設(shè)備運行安全性與耐用性，符合精密半導(dǎo)體設(shè)備用材標準。
五、詳細參數(shù)
設(shè)備供電采用200V三相電源，適配工業(yè)車間常規(guī)供電標準，運行功耗穩(wěn)定、能耗可控；整機外形尺寸為1760mm（寬）×900mm（深）×2050mm（高），立式結(jié)構(gòu)占地空間小，便于車間布局擺放；設(shè)備自重約550Kg，機身厚重穩(wěn)固，運行過程中無晃動、無偏移，保障清洗、傳輸精度；適配7英寸規(guī)格掩膜板，專用卡匣單次最多可裝載20張物料，批量處理能力出眾；支持環(huán)保水溶性清洗液作業(yè)，無需搭配高危試劑，可按需匹配4類不同藥液，適配多樣化清潔需求，各項參數(shù)均貼合半導(dǎo)體車間精密作業(yè)、空間布局、產(chǎn)能效率的核心要求。
六、產(chǎn)品用途
本品主要適用于半導(dǎo)體行業(yè)光刻制程，專門針對線寬1微米及以上規(guī)格的光掩膜板做精細化清洗作業(yè)，高效去除版面顆粒物、光刻膠殘留、有機污染物，保障光刻精度與芯片良率。同時可廣泛應(yīng)用于平板顯示器、MEMS器件、精細線路PCB/FPC/TAB、化合物半導(dǎo)體、薄膜電子元件等精密電子元器件的制程清洗場景，覆蓋多類高精尖電子制造領(lǐng)域，是電子半導(dǎo)體、精密電子加工行業(yè)專用清洗設(shè)備，助力各產(chǎn)線提升產(chǎn)品良率、優(yōu)化制程品質(zhì)。
產(chǎn)品型號：TWC-200A
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