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PRODUCT CLASSIFICATION
產(chǎn)品分類(lèi)產(chǎn)品展示/ Product display
日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設(shè)備日本栗田制作所 PBII-R450 是小型 DLC 成膜裝置，專為研發(fā)與試樣制備設(shè)計(jì)，采用等離子體離子注入工藝，可在真空環(huán)境下高效沉積類(lèi)金剛石薄膜，支持多氣體控制與脈沖電源配置，適合基礎(chǔ)數(shù)據(jù)采集與工藝研發(fā)場(chǎng)景。
產(chǎn)品型號(hào)：PBII-R450廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2026-04-30訪 問(wèn) 量：73
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日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設(shè)備 日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設(shè)備
緊湊高效的研發(fā)設(shè)計(jì)：設(shè)備為小型化設(shè)計(jì)，適合實(shí)驗(yàn)室環(huán)境部署，真空槽排氣后可實(shí)現(xiàn) 1.33×10?3Pa 以下的真空度，大幅縮短實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備時(shí)間，提升研發(fā)效率。
多氣體與精密控制能力：配備 7 路質(zhì)量流量控制器，支持 Ar、H?、CH?、N?等多種工藝氣體，搭配自動(dòng)壓力控制閥，可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境的精準(zhǔn)控制，適配多種成膜工藝需求。
雙電源配置方案：搭載高壓脈沖電源（-20kVp、10Ap，1.5kW）與脈沖 RF 電源（750W/13.56MHz，可升級(jí)至 3kW），支持多種等離子體激發(fā)模式，滿足不同薄膜沉積工藝的能量需求。
的真空與測(cè)量系統(tǒng)：配置渦輪分子泵、機(jī)械增壓泵、旋片泵組成的真空機(jī)組，搭配電離真空計(jì)、皮拉尼真空計(jì)等多種真空測(cè)量?jī)x器，保障真空環(huán)境的穩(wěn)定與監(jiān)測(cè)。
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 型號(hào) | PBII-R450 |
| 設(shè)備類(lèi)型 | DLC 成膜裝置（R&D 小型機(jī)） |
| 電源輸入 | 三相 AC200V±10% 50/60Hz 約 25kVA |
| 真空槽尺寸 | 410mm×410mm×410mm（約 70L，單面門(mén)式） |
| 極限真空 | 1.33×10?3Pa 以下（可調(diào)整設(shè)置） |
| 真空泵組 | 渦輪分子泵 + 機(jī)械增壓泵 + 旋片泵 |
| 高壓脈沖電源 | -20kVp，10Ap，1.5kW，重復(fù)頻率 500Hz~5000Hz |
| 脈沖 RF 電源 | 750W（13.56MHz），可升級(jí)至 1500W/3000W |
| 氣體控制 | 7 路質(zhì)量流量控制器，支持 Ar、H?、CH?、N?等氣體 |
| 設(shè)備尺寸 | 真空裝置：2150×1705×900mm；高壓脈沖電源柜：850×1730×940mm |
類(lèi)金剛石（DLC）薄膜的工藝研發(fā)與試樣制備
機(jī)械零件表面耐磨涂層的實(shí)驗(yàn)室沉積
等離子體離子注入相關(guān)的基礎(chǔ)研究與數(shù)據(jù)采集
功能性薄膜材料的小批量制備實(shí)驗(yàn)
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