日本OTARI 高周波超聲波發(fā)生設(shè)備 日本OTARI 高周波超聲波發(fā)生設(shè)備

一、產(chǎn)品概述

二、核心技術(shù)與產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 高周波無(wú)損傷清洗技術(shù)

   1MHz 以上的高頻超聲波幾乎不產(chǎn)生空化現(xiàn)象，通過(guò)溫和的聲波作用去除亞微米級(jí)顆粒，不會(huì)因壓力沖擊造成工件損傷，適配晶圓、光學(xué)元件等敏感部件的清洗需求。

2. 數(shù)字控制與輸出穩(wěn)定性

   采用數(shù)字控制振蕩器，低輸出工況下的穩(wěn)定性顯著提升，確保清洗過(guò)程均勻可控，實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的無(wú)損傷清洗效果。

3. 適配多種振子類型

   可搭配點(diǎn)射淋浴器、石英棒型等多種振子，支持不同清洗工藝需求；振子更換無(wú)需額外匹配調(diào)整，維護(hù)便捷。

4. 流水式設(shè)計(jì)防顆粒再附著

   配套振子采用流水式設(shè)計(jì)，清洗液持續(xù)流動(dòng)，避免清洗后的顆粒再次附著在工件表面，提升清洗良率。

三、核心參數(shù)與性能指標(biāo)

四、主要應(yīng)用場(chǎng)景

• 半導(dǎo)體晶圓清洗：去除晶圓表面的亞微米級(jí)顆粒，不損傷電路結(jié)構(gòu)，滿足優(yōu)良制程的清洗要求。

• HDD 硬盤部件清洗：硬盤磁頭、盤片等精密部件的無(wú)損傷清洗，避免表面劃傷或性能衰減。

• 光學(xué)元件清洗：鏡頭、濾光片等光學(xué)部件的精細(xì)清洗，去除微小污染物同時(shí)保護(hù)光學(xué)涂層。

五、優(yōu)勢(shì)總結(jié)

• 無(wú)損傷清洗：兆赫茲級(jí)高頻超聲波，無(wú)空化沖擊，保護(hù)敏感工件表面。

• 清洗精度高：可去除亞微米級(jí)顆粒，滿足高精密行業(yè)的潔凈度要求。

• 適配性強(qiáng)：支持多種振子類型，適配不同清洗工藝與場(chǎng)景。

• 維護(hù)便捷：振子更換無(wú)需匹配調(diào)整，降低設(shè)備維護(hù)成本與停機(jī)時(shí)間。